海关总署，信息产业部： 根据《国务院关于印发鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策的通知》(国发[2000]18号)的有关规定，经国务院批准，现对部分集成电路生产企业进口自用生产性原材料、消耗品的税收政策通知如下： 一、自2000年7月1日起，对在中国境内设立的投资额超过80亿元或集成电路线宽小于0．25微米的集成电路生产企业进口本通知附件所列自用生产性原材料、消耗品，免征关税和进口环节增值税。 二、由国家计委将符合上述条件的集成电路生产企业名单通知海关总署，海关对这些企业进口的生产性原材料、消耗品按照本通知附件所列商品目录办理免税手续，并作好后续监管工作。 三、商品目录原则上每年调整一次，由信息产业部会同国家计委、财政部、外经贸部、海关总署、税务总局等有关部门提出意见，报国务院审批。 四、附件所列商品目录包括税则号列和商品名称。海关审核该类进口商品免税时，如遇商品名称和税则归类与本文规定不一致时，以本文所列的商品名称为准。 五、国家计委对符合条件的集成电路生产企业名单、海关总署对享受该政策的年度实际进口数量应及时抄送财政部。 特此通知。 附件：部分集成电路生产企业免税进口自用生产性原材料、消耗品目录 附件：
部分集成电路生产企业免税进口自用生产性原材料、消耗品目录
┌──┬──┬─────────────┬───┬────┬────────────────┬───────────────┐
│序号│性质│类别│序号│税则号列│商品名称│英文品名(企业参考)│
├──┼──┼────┬────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 1│一、│树脂│树脂│1．01 │32149000│塑封胶│RESIN/Molding │
││││││││Compaund/CHIP COAT│
├──┤直接│├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 2│原材││导电树脂│1．02 │38249090│导电胶││
├──┤料├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 3││胶膜│保护膜│2．01 │39209090│(硅片／光掩模、光罩)保护膜│(UV/ICROSTAPE/PELLICLE│
││││││││GALSS)TAPE│
├──┤│├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 4│││硅片正面保护膜│2．02 │39199090│贴膜／(UV感应及非感应背磨／晶背 │UV&NON—UVCURABLE │
│││││││研磨)胶带／胶膜 │BACKGRlNDINGTAPE│
├──┤│├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 5││││2．03 │39199090│剥离膜／揭膜(塑料制成卷，宽度> │ ADHESIVE TAPE(plastic) │
│││││││20cm) ││
├──┤│├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 6││││2．04 │39199099│剥离膜／揭膜(塑料制成卷，宽度< │ADHESIVE TAPE(plastic)│
│││││││=20cm) ││
├──┤│├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 7│││剥离膜│2．05 │40169990│剥离膜／揭膜(橡胶制)│ADHESIVETAPE(rubber)│
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 8││基板│基板│3．01 │85340090│基板(未装器件的印刷电路板)│SUBSTRATE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 9││││3．02 │85425000│线路板│PCBOARD │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│10││支撑带│支撑带│4．01 │85425000│支撑带│TABTAPE │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│11││硅片│硅片(晶片)│5．01 │38180019│硅片／调整片儿／晶元│WAFER/DIE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│12││││5．02 │38180019│辅助(挡控)硅片│(Dummy)WAFER│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│13││││5．03 │28046110│多晶硅(硅棒)││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│14││││5．04 │38180090│硅圈，晶元│Wafer │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│15││特殊气体│高纯度单质气体│ 6．01│28011000│氯气│CHLORINE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│16│││高纯度混合气体│6．02 │28042100│氩气│ARGON │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│17│││高纯度刻蚀气体│6．03 │28042900│氙气│XENON │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│18│││高纯度成膜气体│6．04 │28042900│氦气│HELIUM│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
││││其它高纯度特殊气│6．05 │28043000│氮气│NITROGEN│
│19│││体│││││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│20││││6．06 │28111990│溴化氢│HYDROGENBROMIDE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│21││││6．07 │28112100│二氧化碳│CARBONDIOXIDE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│22││││ 6．08│28112900│一氧化碳│CARBONMONOXIDE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│23││││ 6．09│28112900│一氧化二氮(笑气)│NITROUSOXIDE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│24││││ 6．10│28510090│二氯(甲)硅烷│DICHLOROSILANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│25││││ 6．11│28121049│三氯化硼│BORONTRICHLORIDE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│26││││ 6．12│28121049│三氟化氯│CHLORINETRIFLUORIDE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│27││││ 6．13│28129000│三氟化硼│BORONTRIFLUORlDE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│28││││ 6．14│28121049│六氟化硫│SULFURHEXAFLUORIDE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│29││││ 6．15│28129000│三氟化氮│NITROGENTRlFLUORlDE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│30││││ 6．16│28141000│氨气│AMMONIA │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│31││││ 6．17│28161900│六氟化钨│TUNGSTENHEXAFLUORIDE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│32││││ 6．18│38249090│硅烷氦气混合气体│SILANE／HELlUM│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│33││││ 6．19│28500000│(甲)硅烷│MONOSILANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│34││││ 6．20│38249090│(甲)硅烷氮气混合气体│MONOSILANE／NITROGEN│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│35││││ 6．21│29033090│ 三氟甲烷 │TRIFLUOROMETHANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│36││││ 6．22│29033090│ 四氟化碳 │TETRAFLUOROMETHANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│37││││ 6．23│29033090│ 六氟化二碳 │HEXAFLUOROETHANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│38││││ 6．24│29033090│ 二氟甲烷 │DIFLUOROMETHANE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│39││││ 6．25│29035900│八氟环丁烷(八氟化四碳)│ OCTA—FLUOROCYCLOBUTANE(C4F8)│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│40││││ 6．26│29035900│ 八氟环戊烯(八氟化五碳，八氟环戊│ OCTA—FLUOROCYCLOPENTEN(C5F8)│
│││││││烷) ││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│41││││ 6．27│38249090│氪氖混合气体│KRYPION／NEON │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│42││││ 6．28│38249090│氪氟氖混合气│KRYPTON／F2／NEON │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│43││││ 6．29│38249090│氟氖混合气│F2／Ne│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│44││││ 6．30│38249090│氧气氩气混合气体│OXYGEN／ARGON │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│45││││ 6．31│38249090│磷烷氦气混合气体│PHOSPINE／HELIUM│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│46││││ 6．32│38249090│甲烷氩气混合气体│METHANE／ARGON│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│47││││ 6．33│28041000│氢气│Hydrogen│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│48││││ 6．34│28044000│液氧││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│49││││ 6．35│38249090│氯化氢氮气混合气体││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│50││││ 6．36│28499090│六碳化铬│CrC6│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│51││││ 6．37│38249090│蚀刻化学品│CR—3STCHROMIUMETCHANT│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│52││││ 6．38│29033090│六氟化二碳│C2F4│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│53││││ 6．39│38249090│氦／氢混合气│He／H2│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│54││││ 6．40│38249090│磷化氢／氢气│PH3／H2 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│55││││ 6．41│38249090│磷化氢／氦气│PH3／He │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│56││││ 6．42│38249090│硅甲烷／磷化氢混合气体│PH3／SiH4 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│57││││ 6．43│28121049│六氯化硅│Si2C16│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│58││││ 6．44│28500000│六氢化硅│Si2H6 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│59││││ 6．45│29310000│三甲基硅烷│SiH(CH3)3 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│60││││ 6．46│38249090│四氢化硅／氦气│SiH4／HE2 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│61││││ 6．47│38249090│乙硼烷／氮气混合气体│Diborane／Nitrogen(B2H6／N2)│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│62││││ 6．48│38249090│氟／氮气混合气体│Flourine／Nitrogen│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│63││││ 6．49│38249090│氦气／氮气混合气体│Helium／Nitrogen│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│64││││ 6．50│28061000│氯化氢│Hydrogen Chloride │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│65││││ 6．51│28121049│四氟化硅│Silion│
││││││││Tetrafiuoride(SiF4) │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│66││││ 6．52│28480000│磷化氢│Phosphine │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│67││││ 6．53│28061000│氯化氢│Halocarbon│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│68││││ 6．54│38249090│高纯度砷烷／氢气│ASH3／H2│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│69││││ 6．55│38249090│乙硼烷／氦气│B2H6／He│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│70││││ 6．56│28129000│高纯度氟化硼│BF3 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│71││││ 6．57│28500000│砷化氢│Arsine│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│72││││ 6.58 │38249090│氢气氮气混合气│H2／N2│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│73││││ 6.59 │38249090│磷化氢硅烷混合气│PH3／SiH4 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│74││││ 6.60 │29033090│六氟乙烷│C2F6│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│75││││ 6．61│29033090│四氟乙烷│CF4 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│76││││ 6．62│29033090│氟甲烷│CH3F│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│77││││ 6．63│28111100│氟化氢│HF│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│78││││ 6．64│28500000│氢化砷│ASH3│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│79││││ 6．65│28129000│氟化硼│BF3 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│80││││ 6．66│28261990│氟化锗│GeF4│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│81││││ 6．67│38249090│氧气氦气(氦气氧气)混合气体│O2／He│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│82││││ 6．68│38249090│磷烷氮气混合气│PH3／N2 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│83││││ 6．69│38249090│氧气氮气混合气体│02／N2│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│84││││ 6．70│28112900│一氧化氮│NO│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│85││││ 6．71│38249090│硅烷氩气混合气│SiH4，N5(20％)／Ar│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│86││││ 6．72│38249090│乙硼烷氢气混合气│B2H6／H2│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│87││││ 6．73│28510090│二氯二氢硅││
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│││光刻工艺│显影液│ 7．01│37079090│显像液，显影液(光刻显像剂)│Developer,Tetramethyl Ammonium│
│88││用化学品│││││Hydroxide Solution，│
││││││││(Developer Series)│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│89│││光刻胶│ 7．02│37071000│光刻胶│PhotoreSis│
├──┤││防反射薄膜生成液├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│││││ 7．03│38249090│防反射薄膜生成液│CVD成膜用／防反射薄膜成膜用 │
│90│││││││／BARCDUV／BARC │
│││││││││
│││││││││
├──┤││稀释液├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│91││││ 7．04│38140000│稀释液(光刻显像稀释剂)│PM Thinner(THINNER series)│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│92││││ 7．05│38140000│(净化)稀释液│Cleaning Solution Thinner │
├──┤││聚酰亚胺原液├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│93│││增粘剂│7．06 │39119000│聚酰亚胺原液(感光性聚酰亚胺)│Sumiresin Excel(HP／Photo │
││││││││sensitive)polymide│
│││││││││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│94││││7．07 │29310000│双(三甲基硅)胺│HexamethyldisilazaneOAP │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│95││││ 7．08│29141900│甲基戊基酮│Methyl Amyl Keton │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│96││││ 7．09│29337900│N—甲基—2—吡咯烷酮│N—Methyl—2—Pyrolidone│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│97││││ 7．10│34059000│氧化铝研磨浆│Slurry│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│98││││ 7．11│37013090│光刻工艺专用高等级感光胶片││
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│││抛光剂│抛光剂│ 8．01│34059000│研磨剂│PLANERLITE,Semi—Sperse │
│99│││││││Aqueous │
││││││││ Dispersions,DPPASTE,Aqueous│
││││││││Dispersions／PLANERLITE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 100││││ 8．02│34029000│用于化学机械研磨(CMP)表面活性 │CMP SURFACTANT│
│││││││剂││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 101││││ 8．03│34059000│CMP研磨粒子 │CMPabstrasiveparticle │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 102││││ 8．04│34059000│二氧化铈研磨剂│SLURRYHS—DLS │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 103││││ 8．05│32074000│钝化玻璃粉││
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 104││掺杂源│固态掺杂源│ 9．01│28047090│(高纯度)红磷│High Purity Red Phosphorus│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 105│││气态掺杂源│9．02 │28048000│(高纯度金属)砷│Arsenic Metal │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 106│││液态掺杂源│9．03 │28129000│硼源││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 107││││9．04 │38249090│锑扩散乳胶源││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 108││││9．05 │28258000│三氧化二锑││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 109││││9．06 │28121020│磷酰氯(二氯氧磷)│PhosphorusOxychloride │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 110││││9．07 │28273990│高纯度三氯化铟│INDIUMTRICHLORIDE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 111││││9．08 │28261900│四氟化锗│GeF4│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 112││││9．09 │28261900│三氟化铟│InF3│
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 113││刻蚀液│氟系刻蚀液│10．01│38249090│氢氟酸缓冲液／氢氟酸混合液│Buffered Hydrogen Fluoride│
│││││││││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 114│││剥离液│10．02│38249090│氢氟酸硝酸混合液│FilmEtchPoly│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 115│││磷酸│10．03│28111100│氢氟酸│FlydrofluoricAcid(HF) │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 116││││10．04│38249090│剥离液│ResistStrip,IC461 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 117││││10．05│38249090│氧化物刻蚀缓冲剂│BUFFEREDOXIDEETCH │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 118││││10．06│38249090│氟化氢氟化氨混合液│BOEETCH │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 119││││10．07│29053100│乙二醇│ETHYLENE GLYCOL │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 120││││10．08│38249090│乙二醇+氟化胺 │EG+NH4F │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 121││││10．09│29310000│六甲基乙硅烷│HMDS／HD POLYMIDE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 122││││10．10│38249090│铝刻蚀(液)／M2混合酸│DAE DEFRECKLING ALUMIMUN│
││││││││ETCH／M2Acid／A1 Etch │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 123││││10．11│37071000│感光乳液││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 124││││10．12│38249090│酸碱度调整添加剂│ACID & Alkali PHadjuster│
││││││││additives │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│││││10．13│34021900│BTA／EDA化学品│BTA，EPGRADE1HBENJO │
│ 125│││││││TRIAJOLE│
││││││││ 100G／BT │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 126││││10．14│28332500│含水硫酸铜│CuS04．5H20 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 127││││10．15│28273500│氯化镍│NICKLECHLORIDE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 128││││10．16│28309090│硫化镍│NICKELSULFATE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 129││││10．17│38249090│无尘室用原位氧化刻蚀剂│NOE(NATIVE OXIDE ETCHlNG) │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 130││││10．18│29171110│草酸│CIREX FOR CMP／COOH │
││││││││OXALlC ACID │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 131││││10．19│28061000│盐酸│HYDROCHLORICACID(HCl) │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 132││││10．20│28261000│氟酸铵│AMMONIUMFLUORIDE 40％ │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 133││││10．21│29041000│甲烷磺酸(甲基磺酸)│METHANESULFONICACID │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 134││清洗液│乙醇│11．01│22071000│乙醇(纯度等级高于PPM) │Ethanol │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 135│││硫酸│11．02│28070000│硫酸(纯度等级高于PPM) │SulfuricAcid│
││││││.10 │││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 136│││硝酸│11．03│28080000│硝酸(纯度等级高于PPM) │NitricAcid│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 137│││磷酸│11．04│28092010│磷酸(纯度等级局于PPM) │PhosphoricAcid│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 138│││氨水│11．05│28142000│氨水(纯度等级高于PPM) │Super Pure│
││││││││Ammonium Hydroxide Elm│
││││││││／NH3．H20(AR)│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
││││过氧化氢│11．06│28470000│过氧化氢(双氧水)(纯度等级高于 │HydrogenPeroxide│
│ 139││││││││
│││││││PPM)││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 140│││异丙醇│11．07│29051220│异丙醇(纯度等级高于PPM) │IsopropyAlcohl│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 141│││盐酸│11．08│28152000│氢氧化钾(纯度等级高于PPM) │POTASSIUMHYDROXIDESOLUTION│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 142│││高纯度混合酸│11．09│28261900│氟化钾(纯度等级高于PPM) │POTASSIUMFLUORIDEKF │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│││││11．10│38249090│ 混合酸(1．M2 etching即硝酸+醋酸││
│ 143││││││ +氢氟酸；2．硝酸+醋酸+磷酸：3．││
│││││││氢氟酸+氟化铵)(纯度等级高于 ││
│││││││PPM)││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 144││││11．11│28142000│氢氧化铵(纯度等级高于PPM) │AMMONIUM HYDROXIDEPPB │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 145││││11．12│38220090│钼酸盐试剂(纯度等级高于PPM) │MOLYBDATE3REAGENT │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 146││││11．13│29051990│异丙基乙醇(纯度等级高于PPM) │ISOPROPYLALCOHOLPPB │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 147││││11．14│34029000│ 清洗溶液(磺酸铵溶液)(纯度等级│WRS—200(surfactant)│
│││││││高于PPM)││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│││││11．15│29189000│晶片清洗溶剂(1一甲氧基丙基乙酸│RINSEFORPOLYMIDE│
│ 148││││││ 酯)(纯度等级高于PPM) ││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 149││││11．16│38249090│ 光刻胶去除剂(纯度等级高于PPM)│STRIPPERFORPHOTORESlST│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 150││││11．17│29189000│甲氧基乙酸丙脂(纯度等级高于 │RER 600 PPB │
│││││││ PPM) ││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 151││││11．18│29141100│丙酮(纯度等级高于PPM) │Acetone │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 152││电镀液│电镀原液│12．01│11081900│可溶性淀粉│SOLUABLESTARCH│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 153│││添加剂│12．02│28012000│碘│IODINE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 154│││退锡剂│12．03│38220090│标准硼溶液│BORONSTANDARDSOLUTION │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 155│││其它调整剂│12．04│38249090│变色硅胶│SILICONGEL│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 156│││电镀分析试剂│12．05│29041000│无氟酸／无氟铅／无氟锡│NFACID／NFLEAD／NFTIN │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 157││││12．06│28080000│发烟硝酸│FUMINGNITRIC│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 158││││12．07│38249090│HC酸液│SOLDERONACIDHC│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 159││││12．08│28151100│氢氧化钠│NAOH│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 160││││12．09│38249090│RD浓液│SOLDERON RD │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 161││││12．10│38220090│铅标准溶液│ STANDARDLEADCONC 100ML／B│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 162││││12．11│38249090│缓冲氧化物│BUFFEREDOXIDEETCHANT│
││││││││10：1 W／OHS│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 163││││12．12│28261100│氟化氨│NU4F│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 164││││12．13│28276000│碘化钾│ POTASSIUMIODIDE500ML／BTL│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 165││││12．14│25010020│氯化钠(精制盐)│NACL50KG／BTL(AR) │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 166││││12．15│28323000│硫代硫酸钠│Na2S203500ML／BTL │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 167││││12．16│38220090│铜标准溶液│STANDARD CUPPER │
││││││││CONC 100ML／BTL │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 168││││12．17│38220090│铁标准溶液│ SODIUM IR ON CON │
││││││││ E 100ML／BTL │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 169││││12．18│28362000│无水碳酸钠│SODIUMCDRBONDTE500G／BTL│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 170││││12．19│29054500│无水甘油│GLYCERINE │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 171││││12．20│29072210│对苯二酚│HYDROQUINONE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 172││││12．21│38220090│酚酞试剂│PHENOLPHAHALEIN(5．5／25G)50ML│
││││││││／BTL │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 173││││12．22│38249090│退锡剂│TL—9010│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 174││││12．23│29152190│乙酸│CH3COOH │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 175││││12．24│29041000│甲磺酸│NFACID 30KG／CAN│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 176││││12．25│38220090│硬度试剂/硬度滴定液 │HARDRESSREAGENT／TITRART│
││││││││SOLUTIONHARDRESS│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 177││││12．26│38249090│DPD余氯试剂／氟化电子回流液 │DPD TOTAL CALORTNE REAGENT│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 178││││12．27│34039900│切割冷却液│CUTTlNGFLUlD│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 179││││12．28│34029000│表面活性剂制品│MODIFIER／72BC│
││││││││ADDITIVE／BUFFEREDETCH│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 180││││12．29│38249090│NaOH/Na 3PO4／Na2CO3混合液│ENBOND CA—S│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 181││││12．30│38249090│PH调节剂│PHADJUSTOR│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 182││││12．31│83119000│锡铅球(锡占80％)│SOLDER│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 183││││12．32│38109000│助焊剂│ALPHARTYPE100#│
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 184││成膜专用│绝缘膜生成剂无机│13．01│38249090│绝缘膜生成剂│Sumika Film │
│││化学品│硅成膜剂│││││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 185││││13．02│28273990│四氯化钛│TiCl4 │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 186││││13．03│29190000│磷酸三乙酯│TEPO│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 187││││13．04│29190000│磷酸三甲酯│TrimethylPhosphate│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 188││││13．05│29190000│硼酸三乙酯│TEB │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 189││││13．06│29190000│硼酸三甲酯│TrimethylBorate │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 190││││13．07│29310000│四乙氧基硅烷+氦气(氦气为保护│Tetraethoxysilane TEOS│
│││││││气) ││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 191││││13．08│29310000│四乙氧基硅烷+氮气(氮气为保护││
│││││││气) ││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 192││││13．09│29153300│醋酸丁酯│Butyl Acetate │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 193││││13．10│29181100│乳酸乙酯│乳酸Ethyl │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 194││││13．11│29310000│十二甲基硅醚│DODECAMETHYLCYCLOHEXASILOXA │
││││││││NE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 195││││13．12│29310000│十甲基硅醚│DECAMETHYLCYCLOPENTASILOXANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 196││││13．13│29310000│四甲基硅醚│HEXAMETHYLDISILOXANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 197││││13．14│29310000│六甲基硅醚│HEXAMETHYLCYCLOTRISILOXANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 198││││13．15│29310000│八甲基硅醚│OCTAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 199││││13．16│29310000│二甲基硅醇│TRIMETHYLSILANOL│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 200││││13．17│29032900│偏氯乙烯│TRANS—2—DICHLOROETHYLENE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 201││││13．18│29310000│四一二钾胺钛│TDMAT,Tetrakisdimethylarbine│
││││││││Tiitanium │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 202││││13．19│29310000│四氧乙基硅│TEOS│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 203││││13．20│38249090│光罩蚀刻机清洗剂(无机酸混合物)│AP／MineralAcid │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 204││││13．21│38249090│蚀刻化学药品／铬蚀刻液│CR／chromiumetching │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 205││││13．22│34029000│表面活性剂制品│TK│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 206││││13．23│29310000│三乙基硼烷│TEB │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 207││││13．24│39049000│六氟代聚丙烯│COOLANTGalden(R)HT200 │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 208││掩膜版│掩膜版│14．01│70200019│掩膜版│EXPOSED & DEVELOPED PHOTO MASK│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 209│││光刻版│14．02│70200019│光刻模板│Mask，│
││││││││MaskSubstratematerial │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 210││靶材│靶材│15．01│74199990│铜靶材(>99％)│UltraHighPuritySputterring│
││││││││Target│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 211││││15．02│76169990│铝靶材(>99％)│Ultra HighPuritySpunerring│
││││││││ Target │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 212││││15．03│81019900│钨金属靶(>99％)│Target(tungsten)│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 213││││15．04│76169990│铝一铜靶(A1>99％，Cu≤1％) │TARGETA1一Cu│
│ 214││││15．05│76169990│铝一硅靶(A1>99％，Si≤1％) │TARGETA1一Si│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 215││││15．06│76169990│铝一硅一铜靶(A1>98％，Si<1％, │TARGETA1一Si—Cu│
│││││││Cu<1％=││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 216││││15．07│81059000│钴靶(>99％)│TARGETCo│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 217││││15．08│75089090│镍靶(>99％)│TARGETNi│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 218││││15．09│81039000│钽靶(>99％)│TARGETTa│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 219││││15．10│81089090│钛靶(Ti>99％)│TARGETTi│
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 220││金线│金线│16．01│71081300│金线(99．99％)│GOLDWIRE│
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 221││引线框架│引线框架│17．01│85429000│引线框架、支架│LEADFRAME │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 222││银浆│银浆│18．01│38249090│银浆│AGPASTE │
├──┼──┼────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 223││O型圈 │O型圈 │1．01 │40169910│O型圈 │Oring │
├──┤二、├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 224│间接│组装专用│组装专用吸头│2．01 │39269010│吸头│vaccumTIP │
││生产│吸头││││││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 225│材料│││2．02 │39269010│真空吸杆│VaccumPick—up System │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 226││││2．03 │40169910│橡胶吸嘴│SPONGEVACUIUNCUPS │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 227││承载托盘│承载托盘│3．01 │39269090│承载带／覆盖带／托盘(常温、高温)│CARRIERTAPE／TRAY │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 228││研磨垫子│研磨垫子│4．01 │68042290│研磨垫子│Polishingpad／BackingPad│
│││││││││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 229││││4．02 │68042100│化学机械研磨钻石盘│DiamondDisksforCMP│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 230││││4．03 │39269010│化学机械研磨胶垫中间软垫(塑料)│insert film(plastic)│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 231││││4．04 │40169310│化学机械研磨胶垫中间软垫(橡胶)│insert film(rubber) │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 232││││4．05 │39269010│化学机械研磨头内垫(橡胶制)│membrance │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 233││防静电专│防静电专用内│5．01 │39209990│包装袋││
├──┤│用内包装│包装材料├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 234││材料││5．02 │39231000│硅片盒／晶舟盒│CASSETTE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 235││││5．03 │48239090│硅片衬纸││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 236││││5．04 │40161010│海绵(衬垫)││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 237││││5．05 │38220010│指示纸││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 238││││5．06 │38249090│干燥剂││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 239││││5．07 │76129090│防潮铝袋││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 240││││5．08 │39269090│缓冲垫││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 241││││5．09 │39235000│防静电内包装紧固黑塞│BLACKFORM │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 242││││5．10 │39269090│防静电泡棉│POLLYPINK │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 243││││5．11 │39231000│防静电内包装盒│INTERCARTON │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 244││││5．12 │39172900│材料管│TUBE│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 245││││5．13 │39235000│防静电内包装紧固白塞│CLEARPLUG │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 246││││5．14 │76129090│真空包装袋(铝制)│ALUMINIUMBAG│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 247││││ 5．15│38220010│湿度指示卡│H—I—CARD│
├──┼──┼────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 248││││ 5．16│58061090│魔带│VELSOSTRAP(50EA／BOX) │
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 249││││ 5．17│39269010│塑料吸收棉││
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 250││││ 5．18│40161010│橡胶吸收棉│CHEMICALSERBENT PADS│
├──┤││├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 251││││ 5．19│39191099│防(抗)静电胶带│ANTI—ACID TAPE │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 252││生产线产││ 6．01│39209990│高温(低温)隔离带│HIGHTEMPSEPERATOR │
├──┤│品传输用│├───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 253││品││ 6．02│39269010│吸头(硅橡胶)│SARCON45FSILICON RUBBER │
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│││硅片清洗││ 7．01│96035091│化学机械研磨胶垫处理刷子│PVABRUSH│
│ 254││专用刷││││││
│││││││││
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 255││真空泵油││ 8．01│34031900│真空泵油││
├──┤├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤
│ 256││分析用试│分析用试剂│ 9．01│28363000│碳酸氢钠│SODIUMHYDROGENCARBONATE │
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│ 257││││ 9．02│29152190│醋酸│ACETICACID│
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│ 258││││ 9．03│29189000│丙二醇甲醚己酸酯│PROPYLENE GLYCOL METHYI ETHER │
││││││││ACETATE │
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