光电材料及元件制造业空气污染管制及排放标准
【颁发部门】
【发文字号】
【颁发时间】 1970-08-21
【实施时间】
【效力属性】 有效
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本标准依空气污染防制法第二十条第二项、第二十一条、第二十二条第一项、第二项、第二十三条第二项规定订定之。
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本标准专有名词及符号定义如下：
一、光电材料及元件制造业 (以下简称光电业) ：指从事液晶面板制造及其相关材料、元件或产品制造者。但仅从事二极体元件制造者不在此限。
二、挥发性有机物 (Volatile Organic Compounds，VOCs) ：指含有机化合物之空气污染物总称。但不包含甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸盐、碳酸铵等化合物。
三、单位小时许可排放量：指单一公私场所内所有制程，其固定污染源操作许可证所登载单一空气污染物之年许可排放总量，依核定之年操作时数换算为单位小时排放量称之；单位为公斤／小时。
四、密闭排气系统 (Closed Vent System) ：指可将制程设备产生之空气污染物有效捕集并输送至污染防制设备，使传送之气体不直接与大气接触之系统。该系统包括管线及连接装置。
五、单位小时管道排放量 (以下简称管道排放量) ：指单一排放管道之空气污染物排放量；单位为公斤／小时。
六、污染防制设备处理效率 (以下简称处理效率) ：指空气污染物经污染防制设备处理后之排放量削减百分比，依同步检测污染防制设备前端及后端废气浓度及排放量进行计算，其计算公式如下：
处理效率= (E-E0) ／ E ×100％；单位为％。
E ：经密闭排气系统进入污染防制设备前之空气污染物单位小时排放量；单位为公斤／小时。
E0：经污染防制设备后迳排大气之空气污染物单位小时排放量；单位为公斤／小时。
七、新设制程：指本标准发布施行日起设立之制程。
八、既存制程：指本标准发布施行日前已完成建造、建造中、完成工程招标程序或未经招标程序已完成工程发包签约之制程。但既存制程符合固定污染源设置与操作许可证管理办法第三条规定之变更条件者，以新设制程论。
九、使用量：指以溶剂、树脂或其他形式使用于制程之含挥发性有机物、氢氟酸或盐酸原物料使用量。
十、输出量：指随废溶剂、废弃物、废水、产品携带或其他形式输出制程之挥发性有机物、氢氟酸或盐酸输出量。
十一、每季有效监测时数百分率：指监测设施每季之有效监测时数比率，其计算公式如下：
T – (Du＋Dm)
P =───────×100 ％
T–t
P ：每季有效监测时数百分率；单位为％。
T ：固定污染源每季操作时间；单位为小时。
t ：监测设施汰换时间；单位为小时。
Du：监测设施无效数据时间；单位为小时。
Dm：监测设施遗失数据时间；单位为小时。
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本标准适用于光电业之烟道排气，管制空气污染物项目为挥发性有机物、氢氟酸及盐酸。
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光电业排放之空气污染物应经密闭排气系统收集，并应符合下表规定后始得排放：
┌───┬─────────┬────────────────┐
│空气│适用对象│排放标准│
│污染物│││
├───┼─────────┼────────────────┤
│挥发性│新设制程│处理效率应达百分之八十五或管道排│
│有机物││放量Ο．四公斤／小时以下 (以甲烷│
│││为计算基准) 。│
│├─────────┼────────────────┤
││既存制程│处理效率应达百分之七十五或管道排│
│││放量Ο．四公斤／小时以下 (以甲烷│
│││为计算基准) 。│
├───┼─────────┼────────────────┤
│氢氟酸│污染防制设备前端废│处理效率应达百分之八十五或管道排│
││气浓度三ppm 以上者│放量Ο．一公斤／小时以下│
│├─────────┼────────────────┤
││污染防制设备前端废│处理效率应达百分之七十五或管道排│
││气浓度小于三ppm 者│放量Ο．一公斤／小时以下│
├───┼─────────┼────────────────┤
│盐酸│污染防制设备前端废│处理效率应达百分之八十五或管道排│
││气浓度三ppm 以上者│放量Ο．二公斤／小时以下│
│├─────────┼────────────────┤
││污染防制设备前端废│处理效率应达百分之七十五或管道排│
││气浓度小于三ppm 者│放量Ο．二公斤／小时以下│
└───┴─────────┴────────────────┘
光电业符合固定污染源设置与操作许可证管理办法第三条规定之变更条件者，其新增之污染防制设备应符合新设制程之排放标准。但本标准发布施行日前已设立之污染防制设备仍适用既存制程之排放标准。
第一项单一空气污染物之单位小时许可排放量小于Ο．六公斤／小时者，其个别排放管道适用之排放标准，应报经地方主管机关核可；单一空气污染物之单位小时许可排放量达Ο．六公斤／小时之光电业应以处理效率为排放标准。但同一公私场所之单一空气污染物经二个以上排放管道排放时，排放量较小或仅含模组 (module) 制程废气之排放管道，报经地方主管机关核可者，得以管道排放量为适用之排放标准○检
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前条排放标准之适用规定，应于申请固定污染源操作许可证时，并同空气污染物排放检测报告提出，并经地方主管机关或中央主管机关委讬之政府其他机关核可后登载于固定污染源操作许可证内容。
本标准发布施行日前已设立之光电业，其排放标准之适用，应于中华民国九十六年三月三十一日前完成所有排放管道之挥发性有机物、氢氟酸及盐酸等三项空气污染物检测作业，并完成检测报告后报请地方主管机关或中央主管机关委讬之政府其他机关核可后登载于固定污染源操作许可证内容。
第一项及第二项排放标准适用之异动，应检具最近一年内之空气污染排放检测报告，依固定污染源设置与操作许可证管理办法规定向地方主管机关或中央主管机关委讬之政府其他机关申请。
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光电业使用含挥发性有机物、氢氟酸或盐酸之原物料种类、含量百分比、购入量、使用量、输出量等资料应每月记录。
光电业应配合前项纪录、监测及相关检测作业结果计算全厂挥发性有机物、氢氟酸及盐酸等空气污染物之年排放量，于每年一月底前向地方主管机关申报前一年排放量。
第一项纪录及第二项排放量资料应保存五年备查。
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排放管道之空气污染物监测及检测作业应符合下列规定：
一、挥发性有机物单位小时许可排放量达一．三公斤以上者，其挥发性有机物污染防制设备之废气导入处及排放口应设置连续自动监测设施。
但同一公私场所排放之单一空气污染物经二个以上排放管道排放时，排放量较小或仅含模组 (module) 制程废气之排放管道，经地方主管机关核可者，得免予设置。
二、非前款规定之挥发性有机物排放管道者，其挥发性有机物之非甲烷碳氢化合物 (NMHC) 浓度及排放量每半年应检测一次。检测时需记录当时制程及污染防制设备之操作条件，每次检测应达四小时，检测报告应含所测得浓度之测值、小时平均值及总平均值，处理效率及排放量应采浓度总平均值计算之。但已自行设置连续自动监测设施且符合固定污染源空气污染物连续自动监测设施管理办法规定者，不在此限。
三、无机酸排放管道之氢氟酸及盐酸排放浓度及排放量每年应检测一次，检测时需记录当时制程及污染防制设备之操作条件；每次采样应达三十分钟，采样及测定应达三次以上。检测报告应含所测得各次浓度之测值及总平均值，处理效率及排放量应采浓度总平均值计算之。
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光电业装设污染防制设备处理空气污染物至符合第四条排放标准规定者，其流量计及污染防制设备之监测设施规定如下：
一、污染防制设备之挥发性有机物废气导入处或排放口应设置气体流量计；湿式洗涤设备之洗涤水循环管线应设置液体流量计。
二、污染防制设备应设置操作运转条件之监测设施，并应依附表所列项目及频率进行记录。
三、监测设施之每季有效监测时数百分率应大于百分之八十。气体流量计及液体流量计每年应校正一次。
前项污染防制设备操作运转纪录应保存五年备查。
第一项流量计及监测设施因故无法设置者，得提出替代监测方案，报请地方主管机关核可。
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既存制程应自中华民国九十六年一月一日起符合本标准规定。
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本标准除另定施行日期者外，自发布日施行。
